| Informacje o artykule | Wartość |
|---|---|
| Kategoria: | Sprytne akcesoria – ceramika |
LiSiFuse – prosta droga do estetyki zbliżonej do LiSi na tlenku cyrkonu
LiSiFuse łączy to, co najlepsze z dwóch światów: stabilność tlenku cyrkonu i imponującą estetykę krzemianu litu. Dzięki kontrolowanemu procesowi dyfuzji podczas wypalania LiSiFuse delikatnie łączy się z powierzchnią cyrkonu i trwale optymalizuje powierzchnię ZrO₂. Efektem jest ogromna siła wiązania oraz wolna od porów, wysoko błyszcząca i wolna od odprysków (chippingu) powierzchnia.
Uszlachetniona powierzchnia jest nie tylko estetycznie lepsza, ale także funkcjonalna: zapewnia wyraźnie łagodniejszą dla zębów przeciwstawnych strukturę, która minimalizuje ścieranie zęba przeciwstawnego, a jednocześnie oferuje niezwykle gładkie powierzchnie kontaktu – bez dodatkowej obróbki.
LiSiFuse umożliwia bowiem doskonałe wykończenie bez wypalania glazury i bez ręcznego polerowania. Wystarczy natrysnąć, wypalić i cieszyć się efektem.
Rezultat: uzupełnienie z tlenku cyrkonu, które wizualnie przypomina LiSi2 – błyszczące, gładkie, o naturalnej dynamice światła i od razu gotowe do użycia.
Zalety LiSiFuse
- Podczas wypalania dyfunduje w powierzchnię cyrkonu
- Optymalizuje powierzchnię ZrO₂
- Minimalizuje ścieranie zęba przeciwstawnego
- Ogromna siła wiązania i rezultaty bez odprysków
- Wygląd zbliżony do LiSi2 z błyszczącym połyskiem
- Wolna od porów, niezwykle gładka powierzchnia
- Wykończenie bez wypalania glazury i bez ręcznego polerowania
- Idealny do prac o dużej rozpiętości
- Niezwykle proste stosowanie – natrysnąć, wypalić, gotowe
LiSiFuse – dla wszystkich, którzy chcą szybko, bezpiecznie i bez wysiłku przenieść tlenek cyrkonu na nowy poziom estetyczny i funkcjonalny.
Temperatura wypalania: od 820 °C do 900 °C
HP Dent